Aplikimi i inxhinierisë me performancë të lartë PLAST PLASTIK/PPS në fushën gjysmëpërçuese

February 10, 2023

Aplikimi i inxhinierisë me performancë të lartë PLAST PLASTIK/PPS në fushën gjysmëpërçuese

Gjatë gjithë procesit të prodhimit gjysmëpërçues, roli i plastikës është kryesisht paketimi dhe transmetimi, lidhja e proceseve të ndryshme të përpunimit, parandalimi i ndotjes dhe dëmtimit, optimizimi i kontrollit të ndotjes dhe përmirësimi i rendimentit të proceseve kryesore të prodhimit gjysmëpërçues. Materialet plastike të përdorura përfshijnë PEEK, PPS, PP, ABS, PVC, PBT, PC, Fluoroplastics, PAI, COP, etj. Me zhvillimin e vazhdueshëm të teknologjisë gjysmëpërçuese, kërkesat e performancës së materialeve po bëhen gjithashtu më të larta dhe më të larta.

1. Unaza mbajtëse e CMP

Lustrimi mekanik kimik (CMP) është një teknologji kryesore e procesit në procesin e prodhimit të meshës. Gjatë procesit të bluarjes, unaza mbajtëse CMP përdoret për të rregulluar meshën dhe meshën. Materiali i zgjedhur duhet të ketë rezistencë të mirë të konsumit, rezistencë të qëndrueshme në mënyrë dimensionale, rezistencë kimike, përpunim të lehtë dhe të shmangë gërvishtjet dhe ndotjen e sipërfaqes së meshës/të rrumbullakët.
Unazat mbajtëse CMP përdoren për të mbajtur patate të skuqura gjatë bluarjes. Materiali i zgjedhur duhet të shmangë gërvishtjet dhe ndotjen e sipërfaqes së çipit. Zakonisht është bërë nga sulfidi standard i polifenilenit.
PEEK ka një stabilitet të lartë dimensionale, përpunueshmëri të lehtë, veti të mira mekanike, rezistencë të mirë të korrozionit kimik dhe rezistencë të mirë të konsumit. Krahasuar me unazat PPS, unazat mbajtëse të CMP të bëra nga shikimi kanë rezistencë më të fortë të konsumit dhe dyfishin e jetës së shërbimit, duke zvogëluar kështu kohën e humbjes dhe rritjen e rendimentit të çipit.
Materiali: Peek, sulfid polifenileni

2. Transportuesi i meshës

Transportuesit e meshës përdoren për të ngarkuar meshat, përfshirë kutitë e transportuesit të meshës, kutitë e transferimit të meshës dhe anijet e meshës. Wafers Time ruhen në kutitë e transportit llogaritë për një pjesë të madhe të të gjithë procesit të prodhimit, dhe materiali, cilësia dhe pastërtia e kutisë së meshës në vetvete mund të ketë një ndikim më të madh ose më të vogël në cilësinë e meshës.
Transportuesit e meshës në përgjithësi përdorin rezistencë të lartë të temperaturës, veti të shkëlqyera mekanike, stabilitet dimensionale, qëndrueshmëri, antistatike, të ulëta të ulëta, reshje të ulëta dhe materiale të riciklueshme. PEEK mund të përdoret për të bërë transportues për proceset e përgjithshme të transportit. Në përgjithësi përdoret një vështrim antistik. PEEK ka shumë veti të shkëlqyera, të tilla si rezistenca ndaj gërryerjes, rezistenca kimike, stabiliteti dimensional, antistika dhe tejkalimi i ulët, të cilat ndihmojnë në parandalimin e ndotjes së grimcave. Dhe të përmirësojë besueshmërinë e përpunimit, ruajtjes dhe transferimit të çipit.
Materialet përfshijnë: PEEK, PFA, PP, PES, PC, PEI, COP, etj., Në përgjithësi pas modifikimit antistik

3. Kutia e maskave

Një fotomaskë është një mjeshtër model që përdoret në procesin e fotolitografisë në prodhimin e çipave. Ajo bazohet në gotë kuarci dhe e veshur me metal krom për të bllokuar dritën. Duke përdorur parimin e ekspozimit, burimi i dritës është parashikuar në meshën e silikonit përmes një fotografie për të ekspozuar dhe shfaqur modele specifike. Anydo pluhur ose gërvishtje që i përmbahet Photomask do të degradojë cilësinë e imazhit të parashikuar. Prandaj, është e nevojshme të shmangni ndotjen e fotomaskës dhe të parandaloni grimcat e krijuara nga ndikimi ose fërkimi të ndikojë në pastërtinë e fotomaskës.
Për të shmangur dëmtimin e fotomaskës për shkak të fërkimit, fërkimit ose zhvendosjes, pods fotomask janë bërë përgjithësisht nga materiale antistatike, të ulëta të larta, të ulta, të qëndrueshme.
PEEK ka karakteristikat e ngurtësisë së lartë, shumë pak gjenerim të grimcave, pastërti të lartë, rezistencë ndaj korrozionit kimik, rezistencë ndaj konsumit, rezistencë ndaj hidrolizës, forcë të mirë dielektrike dhe rezistencë të mirë të rrezatimit. Dhe gjatë përpunimit të retikulit, patate të skuqura retikale mund të ruhen në një mjedis me ndotje të ulët të tejdukshme dhe të ulët jonike.
Materiali: Peek anti-statik, PC anti-statik, etj.

4. Mjetet e meshës

Mjetet për shtrëngimin e meshave ose meshat e silikonit, të tilla si kapëset e meshës, stilolapsat e thithjes së vakumit, etj., Kur shtrëngojnë meshat, materialet e përdorura nuk do të gërvishtin sipërfaqen e meshës dhe nuk kanë mbetje, duke siguruar integritetin e pastërtisë së sipërfaqes së meshës.
PEEK ka karakteristikat e rezistencës së temperaturës së lartë, rezistencës së veshjes, qëndrueshmërisë së mirë dimensionale, shkallës së ulët të tejkalimit dhe higroskopicitetit të mirë. Kur kapni meshat dhe shinat me kapëse me shirita shikimi, nuk do të ketë gërvishtje në sipërfaqen e meshës ose meshës. Gërvishja nuk shkakton mbetje në meshë dhe meshë për shkak të fërkimit, duke përmirësuar pastërtinë sipërfaqësore të wafers dhe wafers.
Materiali: Shikimi

5. priza e provës së paketës gjysmëpërçuese

Një prizë provë është një pajisje që lidh elektrike qarkun e drejtpërdrejtë të secilit përbërës gjysmëpërçues me një instrument provë. Sockets të ndryshme të provave përdoren për të provuar mikrokipi të ndryshëm specifik për projektuesin IC. Materiali i përdorur për prizën e provës duhet të plotësojë kërkesat e stabilitetit të mirë dimensionale, forcën e lartë mekanike, më pak formimin e burr -it, qëndrueshmërinë e mirë, diapazonin e gjerë të temperaturës dhe përpunimin e lehtë.
Materiali: Peek, PPS, Pai, Pi, Pei